Το υγρό λείανσης χωρίζεται ανάλογα με τον μηχανισμό δράσης του: υγρό λείανσης μηχανικής δράσης, υγρό λείανσης χημικής μηχανικής δράσης.
Υγρό μηχανικής λείανσης: το διαμάντι, το B4C, κ.λπ. χρησιμοποιούνται ως λειαντικά, διασκορπίζονται στο υγρό μέσο με την προσθήκη διασκορπιστικών κ.λπ., για να σχηματιστεί ένα υγρό με αποτέλεσμα λείανσης, που ονομάζεται υγρό λείανσης διαμαντιού, υγρό λείανσης καρβιδίου βορίου κ.λπ. Το λειαντικό είναι κατανέμεται ελεύθερα στο υγρό διασποράς και η λείανση και η λέπτυνση του τεμαχίου προς κατεργασία πραγματοποιείται χρησιμοποιώντας την αρχή ότι η σκληρότητα του λειαντικού υλικού είναι μεγαλύτερη από εκείνη του προς άλεση τεμαχίου. Σύμφωνα με την επιφάνεια του λειαντικού, το μέγεθος των σωματιδίων, τη διαμόρφωση του υγρού λείανσης, τη σταθερότητα του εξοπλισμού λείανσης κ.λπ., αφού ολοκληρωθεί η λείανση, είναι εύκολο να μείνουν μεγάλες ή μικρές γρατσουνιές στην επιφάνεια του το τεμάχιο εργασίας. Ως εκ τούτου, τα λειαντικά μηχανικής δράσης χρησιμοποιούνται γενικά για τραχιά λείανση, ακολουθούμενη από λείανση και στίλβωση ακριβείας.
Χημικό-μηχανικό ρευστό λείανσης: Το χημικό-μηχανικό υγρό λείανσης χρησιμοποιεί την αρχή της «μαλακής λείανσης και σκλήρυνσης» στη φθορά, δηλαδή γυαλίσματος με μαλακότερα υλικά για την επίτευξη γυαλισμένης επιφάνειας υψηλής ποιότητας. Είναι ένας συνδυασμός μηχανικής λείανσης και χημικής διάβρωσης. Σχηματίζει μια λεία και επίπεδη επιφάνεια στην επιφάνεια του εδάφους μέσω της δράσης λείανσης και χημικής διάβρωσης των εξαιρετικά λεπτών σωματιδίων. Επομένως, το χημικό μηχανικό γυαλιστικό υγρό ονομάζεται επίσης χημικό μηχανικό γυαλιστικό υγρό (Chemical Mechanical Polishing, που αναφέρεται ως CMP). Παρουσία ορισμένης πίεσης και γυαλιστικού πολτού, το προς γυάλισμα τεμάχιο μετακινείται σε σχέση με το στρώμα στίλβωσης και σχηματίζεται μια λεία επιφάνεια στην επιφάνεια του γυαλισμένου τεμαχίου μέσω του οργανικού συνδυασμού της επίδρασης λείανσης των νανοσωματιδίων και του επίδραση διάβρωσης του οξειδωτικού.
